产品应用 集成电路：-28-180nm技术节点-逻辑、存储、功率器件-poly，gate，contact，via，metal等工艺层制作产品特点 - 分辨率：0.15-0.25μm- 膜厚：0.4-2μm- 高深宽比，耐刻蚀，耐离子注入，高感光度
产品应用
集成电路：
-28-180nm技术节点-逻辑、存储、功率器件-poly，gate，contact，via，metal等工艺层制作
-28-180nm技术节点
-逻辑、存储、功率器件
-poly，gate，contact，via，metal等工艺层制作
产品特点
- 分辨率：0.15-0.25μm- 膜厚：0.4-2μm- 高深宽比，耐刻蚀，耐离子注入，高感光度
- 分辨率：0.15-0.25μm
- 膜厚：0.4-2μm
- 高深宽比，耐刻蚀，耐离子注入，高感光度
欣奕华微信公众号
邮政编码：236000 联系电话：+86-558-3926888
企业邮箱： fysineva@sineva.com.cn（业务） fyzhaopin@sineva.com.cn（招聘）
公司地址：安徽省阜阳市颍州区阜合产业园区天柱山路1号
皖公网安备 34120202000670号
